原子層沉積系統(tǒng)臭氧發(fā)生器要求

原子層沉積系統(tǒng)用臭氧發(fā)生器要求如下：

臭氧發(fā)生器產量10 g/h，濃度不低于80 g/m，臭氧流量可控(0~200 sccm)

以下臭氧發(fā)生器可滿足要求：

1、3S-T10  ,臭氧產量10g/h，臭氧濃度120mg/L，氧氣進氣范圍0.05-4L/min

2、NANO15，臭氧產量15g/h，臭氧濃度150mg/L，氧氣進氣范圍0.05-2L/min

3、3S-M5，臭氧產量10g/h，臭氧濃度110mg/L，氧氣進氣范圍0.05-2L/min

4、EXT-M10，臭氧產量5-10g/h，臭氧濃度120mg/L，氧氣進氣范圍0.05-2L/min

5、Atlas H30  ，臭氧產量3g/h，臭氧濃度200mg/L，氧氣進氣范圍0.05-2L/min

可根據臭氧濃度需求，體積大小，價位來選擇合適的臭氧發(fā)生器。